半導体製造装置リンクのページ

  1. 「キャノン販売」にジャンプする。日本国内向けの キャノン製品全般を紹介している。
    アクセス例:
    FPA-5000AS1主な製品仕様
    ウエハーサイズ  最大300mm
    レチクルサイズ  □6インチ
    縮小比      1/4倍
    NA(開口数)  0.60〜0.40 (自動可変)
    画面サイズ    26mm×33mm
    焼き付け波長   193ナノメートル
    光源      ArFエキシマレーザー
    解像力      0.13マイクロメートル以下
    トータルオーバーレイ精度  m+3σ≦35ナノメートル

    FPA-4000ES1の主な製品仕様
    ウエハーサイズ  最大8インチ
    レチクルサイズ  口6インチ
    縮小比 1/4倍
    NA(開口数) 0.63
    画面サイズ 25mm×33mm
    焼き付け波長  248ナノメートル
    光源 1.0KHz KrFエキシマレーザー
    解像力  0.25ミクロン以下
    オートアライメント方式  Off-axis画像処理方式、TTL Off-axis画像処理方式
    トータルオーバーレイ精度 70ナノメートル以下
    スループット 80枚/時間(8インチウエハー、26ショット、レジスト感度 50mJ/cm2時)
    大きさ 1,900mm(幅)×2,800mm(奥行き)×2,450mm(高さ)
    重さ 7,500kg

  2. 「ニコン」にジャンプする。日本国内向けの ニコン製品全般を紹介している。
    アクセス例:
    NSR-S203B 主な仕様 
    ウエハーサイズ  最大300mm
    解像度 0.18μm
    N.A.(開口数) 0.68
    露光光源 KrFエキシマレーザ(波長248nm)
    縮小倍率 1 / 4 倍
    露光範囲 25×33mm
    総合アライメント精度 40nm 以下(|x|+3σ)

    NSR-S202A 主な仕様
    解像度 0.25μm以下
    露光光源 KrFエキシマレーザ(248nm )
    縮小倍率  1 / 4倍
    総合アライメント精度 (EGA,|~x|+3σ)45nm以下
    スループット (8インチ(200mm)ウェハ換算)80枚/時以上

  3. 「ASM Lithography」にジャンプする。specializes in photolithography with an installed base of more than 600 systems at customer sites around the world.「ASM Lithographyの露光装置紹介」

    PAS 5500/900詳細資料

    アクセス例:
    PAS 5500/900 specifications
    Resolution    0.15μm
    Field size    26 x 33mm
    Wavelength   193.368nm
    Reduction   4X
    NA       0.60 - 0.45
    Dynamic distortion  25nm
    Overlay, single machine   40nm
    Overlay, matched toPAS 5500/500  60nm
    Throughput,200 mm wafers, 46 shots @10 mJ/cm 2  40(WPH)

    PAS 5500/500 DUV Step & Scan system仕様
    Lens NA Variable 0.40 to 0.63
    Lens Resolution 0.22μm
    Field Size X & Y 26 X 33mm
    Overlay 2pt. Global Alignment <45nm
    Throughput 200mm Wafers 46 Exp., 30mJ/cm2 >96wph

  4. 「大日本スクリーン製造(株) 」にジャンプする。日本スクリーン製造(株)の製品紹介」
    アクセス例:
    D-SPIN200は、これまで8インチスピンナに求められてきた多様なニーズに対する回答を1台に集約した、完成度の高いコータ・デベロッパです。今後主流になると考えられる化学増幅型レジストにも対応します。また、無駄のないレイアウトを可能にした新設計思想、ランニングコストを低減させる省レジスト機構、生産性を高める新搬送システム、装置の保守を容易にする各種メンテナンス専用パネルなどにより、C.O.O.を大幅に低減させました。さらに、管理できないパラメータを極力排除し、装置の長期安定化も実現。レジスト塗布均一性、CD均一性、パーティクルなどについて、長期にわたり高い性能が維持できます。
  5. 「東京エレクトロン(株)」にジャンプする。東京エレクトロン(株)の製品紹介」
    アクセス例:
    主な自社開発製品
    酸化/拡散・LP-CVD装置
    コータ/デベロッパ
    スクラバーシステム
    キャリアレス洗浄装置
    エッチング装置
    ウェーハプローバ
    メタルCVD装置
    ECR CVD装置
    プロービングカード
  6. 「東京応化工業」にジャンプする。東京応化工業の会社概要」
  7. 「住友化学工業(株) 」にジャンプする。住友化学工業(株) の会社概要」
  8. 「日立化成工業(株) 」にジャンプする。日立化成工業(株) の会社概要」
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