エリプソメータは薄膜の膜厚測定に良く使用されます。
エリプソメータの原理薄膜多重干渉の理論については、光の不思議と応用 １０章：多光束干渉
９章：反射と屈折の法則に行く。を参照願います。
リプソメータの計算式図4-1において表面反射は
物体N1とN2の境界面の反射は
薄膜多重干渉の式から
S偏光の反射率は
エンリプソメータではP偏光とS偏光を以下のように変換します。
（4.9）式と（4.10）式の定義は装置により異なる可能性があります。
エリプソメータの計算プログラムEXCELの表計算でも可能ですが、C#、WPFアプリケーションで作成します。
完成ファイルは以下からダウンロードできます。
ダウンロード後は解凍してから使用してください。
[エリプソメータ]をダウンロードする。解凍すると「Ellipso」フォルダーがあります。
「Ellipso」フォルダー内の「Ellipso.sln」をダブルクリックすると「Express 2012 for Windows Desktop」が起動して、プログラムの修正・デバッグが可能です。
「Ellipso.exe」をダブルクリックすると実行プログラムが起動して、エリプソメータの計算が可能となります。
操作説明（１）計算実行ボタンを押すと数表が作成されます。
（２）グラフ表示ボタンを押すとグラフが表示されます。
（３）戻るボタンで主画面に戻ります。
（４）再度計算実行ボタンを押して数表を作成します。
（５）メニューの「保存」を選択すると、数表をタブ区切りテキスト形式で保存できます。
（６）クローズボックスで終了します。
感想：
（１）エリプソメータはプサイ（ψ）とデルタ（Δ）の2つのパラメータを精密測定します。
（２）プサイ（ψ）とデルタ（Δ）から基板の複素反射率を求めることができます。
（３）基板の複素反射率と薄膜の複素反射率が既知の場合、膜厚を求めることができます。
（４）膜厚に対して、プサイ（ψ）とデルタ（Δ）は周期的に変化するため、あらかじめ 膜厚予想値を設定する必要があります。
（５）膜厚予想値がずれている場合、周期ずれを起こす可能性が高くなります。
（６）薄膜の屈折率が不明の場合、屈折率の虚数部をゼロに設定し、屈折率の実数部と膜厚 を同時に求めることができます。
（７）多層膜基板上の薄膜の厚さを測定する場合、多層膜基板の複素屈折率を測定し、測定 した複素屈折率を設定することにより、多層膜基板上の薄膜の厚さを近似的に測定できます。
（８）ほとんどの物質は空気中で酸素と結合し、表面に酸化膜が形成されます。 シリコン基板でも例外ではなく、表面に自然酸化膜が形成されます。
（９）基板の複素屈折率の設定は、実測した複素屈折率を設定したぼうが、基板表面の 酸化膜の影響が軽減します。
（１０）エリプソメータの使いこなしは結構難しいものがあります。 測定原理を理解し、種々のケースでプサイ（ψ）とデルタ（Δ）の計算を 行うことが重要です。